TFT-LCD течнокристален екран с масивна технология

Процесът на TFT-LCD екран с течни кристали е разделен на процес на масив, процес на опаковане и процес на модул според реда на обработка. В тази статия ще предоставим подробно въведение в първия етап на масивната технология.

Процесът на матрицата е подобен на полупроводниковия процес на системно създаване на TFT устройства, пиксели и други модели върху стъклен субстрат. Технологията на масива включва процес на почистване, технология за образуване на CVD филм, технология за образуване на филм с разпръскване, фоторезист или фоторезист (PR) покритие, технология за проявяване и отстраняване, технология за експониране, технология за мокро ецване, технология за сухо ецване и т.н. Накрая върху стъкления субстрат се формира модел от 4-5 тънки филма.

Първо, почистете добре стъкления субстрат и след това оформете филм (метод на разпръскване на метал, метод на неметален CVD); Нанесете PR върху субстрата след образуване на филм и го експонирайте с МАСКА. Прехвърлете желания модел от MASK в PR. След проявяване и измиване на фоточувствителната част от PR, останалият PR е желаният модел; Продължавайки с процеса на ецване (обикновено мокро ецване за метали и сухо ецване за неметали), филмът без PR защита се отстранява, оставяйки желания модел на филма; Накрая премахнете PR-а. Третирането с отгряване трябва да се извърши в края на процеса на масива и инспекцията трябва да се извърши през целия процес на масива, ако е необходимо.